Гелиевая ионно-лучевая литография

Ионно-лучевая литография представляет собой разновидность методов литографии, в которой используется локальное облучение сфокусированным ионным пучком. Существуют различные системы со сфокусированным ионным пучком, использующие ионы различных химических элементов, однако наилучшее разрешение может быть достигнуто с применением гелиевого ионного микроскопа. В первые годы после появления данного прибора была опубликована серия работ, показывающая, что для литографии на резисте HSQ с его помощью может быть легко достигнуто разрешение менее 10 нм.