Под термином “литография” в микроэлектронике обычно понимают совокупность технологических методов, предназначенных для переноса заданного рисунка на поверхность. В основе такого переноса лежит изменение растворимости специального материала (резиста) в результате различных внешних воздействий (УФ и рентгеновское облучение, облучение ускоренными электронами или ионами). Тонкий слой резиста наносится на поверхность, облучаются требуемые области и рисунок проявляется путем растворения облученного (или необлученного) резиста. В данном разделе представлены основные методы электронной и ионной литографии, то есть лиографии, выполняемой облучением электронами или ионами.
