Электронная литография

Электронная литография является одним из наиболее распространенных методов создания наноструктур на поверхности твердого тела. Традиционным и наиболее применяемым резистом применяемым в электронной литографии является полиметилметакрилат (ПММА), а наилучшее разрешение удается получить при использовании силсеквиоксана водорода (HSQ). Резист наносится в виде раствора на поверхность вращающейся подложки, и, растекаясь в результате вращения, равномерно покрывает ее пленкой постоянной толщины, после чего происходит испарение растворителя. В результате облучения электронами в пленке резиста происходит разрыв химических связей, что в случае ПММА приводит к увеличению растворимости (позитивный резист), а в cлучае HSQ – наоборот (негативный резист). После проявки в соответствующем растворителе на поверхности остается рисунок (паттерн), который может быть использован как маска для химического травления подложки, или для нанесения на подложку тонких пленок различных материалов.