Методы исследования материалов современной микроэлектроники невозможно себе представить без нанесения тонких пленок, металлических, диэлектрических и полупроводниковых. Основные методы роста тонких пленок, применяемые в нашей лаборатории, и примеры их применения приведены ниже.
- Магнетронное распылениеМагнетронное распыление представляет собой разновидность распыления ионной бомбардировкой. Атомы материала, который требуется нанести на поверхность, выбиваются из твердой мишени ионами газа, которые образуются за счет газового разряда в магнитном поле.… Читать далее Магнетронное распыление
- Термическое напылениеВ основе метода термического испарения лежит нагрев распыляемого материала в вакууме пропусканием электрического тока. В результате нагрева до температуры, превышающей температуру плавления происходит испарение и атомы материала свободно разлетаются по… Читать далее Термическое напыление