В основе метода термического испарения лежит нагрев распыляемого материала в вакууме пропусканием электрического тока. В результате нагрева до температуры, превышающей температуру плавления происходит испарение и атомы материала свободно разлетаются по вакуумной камере, оседая на все поверхности, включая объект, на который требуется нанести тонкую пленку.