Магнетронное распыление представляет собой разновидность распыления ионной бомбардировкой. Атомы материала, который требуется нанести на поверхность, выбиваются из твердой мишени ионами газа, которые образуются за счет газового разряда в магнитном поле. Кроме нанесения на подложку пленки вещества, из которого состоит распыляемая мишень, возможно нанесение бинарных соединений, образованных в результате реакции вещества мишени с ионами распыляющего газа.